산업부 “가스안전분야 규제 혁신” 발표
정부가 반도체 산업 지원을 위해 가스안전분야 규제혁신에 나섰다. 극자외선 파장(EUV) 장비의 국내 반입을 촉진시키고 반도체 공장증설의 애로사항을 해결하며며, 각종 검사 절차를 기업 요구에 맞춰 간소화시키는 정책 등이 수립된다.

산업통상자원부는 반도체 산업에 사용되는 고압가스에 대한 안전혁신과제 11건을 선정하고, 고압가스 관련 반도체 생산장비 및 저장설비 등에 대한 7개 과제를 전문가 검토를 거쳐 신속히 개선해 나갈 계획이라고 12일 발표했다. 법 개정 사안이거나 각종 기준 마련이 선행되어야 하는 나4건에 대해선 중장기 검를 하기로 했다. 앞서 지난 7월 20일 삼성 등 반도체기업과의 간담회 및 이후 현장방문 과정에서 제시된 과제들을 해결하는 조치다.

정부는 우선 극자외선을 이용해 반도체 회로를 그리는 노광장비로 네덜란드 ASML이 독점 생산하는 EUV 장비 선점을 위해 신소재배관 사용근거를 신설하기로 했다. 반도체 공장증설 과정에서의 편의를 높이기 위해 방호벽 지주설치 방법 및 재질을 다양화 할 수 있도록 근거 기준도 마련하기로 했다. 아울러 가연성 고압가스 저장용기 캐비닛 실내보관 기준을 완화키로 했다.

설치·장비 관련 규제 뿐 아니라 각종 인허가를 간소화하는 방안도 추진된다. 저압으로 수소를 소비하는 반도체 생산장비는 검사 대상에서 제외키로 했고, 분배장치(VMB)부터 생산장비까지 저압수소 배관을 사업자 자율검사 대상으로 두기로 했다. EUV 장비 국내반입 시 국제공인기관 검사결과를 인정하는 방식을 활용, 국내 검사기간을 기존 26주에서 2일로 줄일 계획이다.

산업부는 또 ▲공압가스 실린더 캐비닛 대표설비 검사 허용 기준 마련 ▲반도체 산업관련 고압가스 안전관리자 선임 기준 완화 ▲반도체 등 제조업 생산시설에 대한 고압가스법 적용 완화 ▲소화설비 관련 중복 인허가·검사 관련법 일원화 적용 등을 중장기 과제로 검토할 계획이다.